La lithographie EUV d'ASML reste la 'barrière la plus difficile' de la Chine dans la poussée des semi-conducteurs, déclare un expert néerlandais.

Selon Marc Hijink, dans Het Nieuwe Rijnmond, l'industrie chinoise des semi-conducteurs fait face à son obstacle technique le plus important avec les équipements de lithographie ultraviolet extrême (EUV), actuellement fabriqués exclusivement par le géant néerlandais ASML, sans aucune technologie alternative disponible.

Hijink a noté qu'ASML a passé environ 15 ans à développer la technologie EUV, du principe de laboratoire à la production de masse, intégrant des capacités complexes de source lumineuse et de fabrication de précision. Le concurrent japonais Nikon, qui a investi plus de 100 milliards de yens dans la recherche EUV, n'a pas réussi à produire des équipements commercialement viables et s'est retiré du marché. Pendant ce temps, la Chine a investi des années dans la recherche EUV et obtenu des brevets, mais reste sans équipement de production commercialisé. Hijink a souligné que le développement de l'EUV représente un "no man's land" technologique pour les entreprises chinoises sous les contrôles à l'exportation actuels, concentrant des ressources qu'aucune entreprise seule ne peut facilement reproduire.