Intel adopte la lithographie EUV haute ouverture (High NA) de prochaine génération d'ASML pour la production de Panther Lake

2026-07-15 05:12:29

D’après ASML, Intel a commencé à utiliser l’équipement de lithographie EUV à ouverture numérique élevée (High Numerical Aperture, High NA) de prochaine génération d’ASML pour produire des processeurs de la série Panther Lake mardi (15 juillet). Cette évolution fait suite à des essais expérimentaux lancés en 2024, Intel déployant désormais l’outil avancé dans une production à grande échelle afin d’améliorer l’efficacité de fabrication.

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