A litografia EUV da ASML continua sendo a 'barreira mais difícil' da China no avanço dos semicondutores, afirma especialista holandês

Segundo Marc Hijink, escrevendo no Het Nieuwe Rijnmond, a indústria de semicondutores da China enfrenta sua barreira técnica mais significativa nos equipamentos de litografia ultravioleta extrema (EUV), atualmente fabricados exclusivamente pela gigante holandesa ASML, sem tecnologia alternativa disponível.

Hijink observou que a ASML gastou aproximadamente 15 anos desenvolvendo a tecnologia EUV, desde o princípio laboratorial até a produção em massa, integrando fontes de luz complexas e capacidades de fabricação de precisão. O concorrente japonês Nikon, que investiu mais de 100 bilhões de ienes em pesquisa de EUV, não conseguiu produzir equipamentos comercialmente viáveis e se retirou do mercado. Enquanto isso, a China investiu anos em pesquisa de EUV e obteve patentes, mas continua sem equipamentos de produção comercializados. Hijink enfatizou que o desenvolvimento de EUV representa uma "terra de ninguém" tecnológica para empresas chinesas sob os atuais controles de exportação, concentrando recursos que nenhuma empresa consegue replicar facilmente.