Samsung розгортатиме 2-нм техпроцес для AI-пам’яті HBM5, що забезпечить на 50% вищу швидкість порівняно з HBM4E

За даними Chosun Daily, 27 липня Samsung Electronics оголосила плани використовувати свій 2-нанометровий процес для базового кристала (base die) у восьмому поколінні високосмугової пам’яті (HBM5). Компанія заявила, що HBM5 оброблятиме дані більш ніж на 50% швидше, ніж поточні чипи HBM4E, використовуючи 2-нм базовий кристал Gate-All-Around і вдосконалені крізні з’єднання через кремнієві переходи (TSV), щоб підвищити швидкість і енергоефективність.
Застереження: інформація на цій сторінці може походити зі сторонніх джерел і надається виключно для ознайомлення. Вона не відображає позицію чи думку Gate і не є фінансовою, інвестиційною чи юридичною консультацією. Торгівля віртуальними активами пов’язана з високим ризиком. Будь ласка, не покладайтеся лише на інформацію з цієї сторінки під час прийняття рішень. Детальніше дивіться у Застереженні.
Прокоментувати
0/400
Немає коментарів