تعلن شركة Tower Semiconductor عن استثمار $3B في اليابان، بما في ذلك منحة حكومية $1B ، بهدف توسيع تصنيع الرقائق

2026-07-14 13:00:46

وفقاً لوكالة رويترز، أعلنت شركة Tower Semiconductor اليوم (14 يوليو) عن استثمار بقيمة 3 مليارات دولار لتوسيع تصنيع الرقائق في اليابان، مع تخصيص 1 مليار دولار من التمويل الحكومي الياباني. وستقوم الشركة بزيادة طاقة أجهزة السيليكون الضوئية مقاس 300 مم على مرحلتين. تتعلق المرحلة الأولى بترقية منشأة Fab 6، ومن المتوقع أن تبدأ الإنتاج بكامل طاقتها في الربع الرابع من عام 2027. أما المرحلة الثانية، التي تُطلق بالتوازي، فستتضمن إنشاء منشأة جديدة للطباعة الحجرية مقاس 300 مم مجاورة لمنشأة Fab 7.

عرض المصدر

إخلاء المسؤولية: قد تكون المعلومات الواردة في هذه الصفحة مستمدة من مصادر خارجية وهي للمرجعية فقط. لا تمثل هذه المعلومات آراء أو وجهات نظر Gate ولا تشكل أي نصيحة مالية أو استثمارية أو قانونية. ينطوي تداول الأصول الافتراضية على مخاطر عالية. يرجى عدم الاعتماد حصرياً على المعلومات الواردة في هذه الصفحة عند اتخاذ القرارات. لمزيد من التفاصيل، يرجى الرجوع على إخلاء المسؤولية.

أخبار ذات صلة

منذ 7 س

تستثمر إنتل 5.4 مليار دولار في توسيع مصنع في أيرلندا لتلبية الطلب على الذكاء الاصطناعي

منذ 12 س

بدء إنتاج ضخم لرقائق السيليكون الفوتونيكية في سنغافورة؛ توقعات أفضل من سيتي

منذ 13 س

كوريا الجنوبية تطلق ثلاثة مشاريع ضخمة وتخطط لإجراء تجربة لتوريق ديونها السيادية عبر توكنات البلوك تشين في النصف الثاني من عام 2026

منذ 16 س

UMC يُنجز الإنتاج الضخم لـ1.6 تريليون شريحة فوتونية من السيليكون مع SILITH

منذ 17 س

تستثمر شركة Micron $3B في شركة GlobalWafers لتوريد رقائق السيليكون مع انتقال اختناق البنية التحتية للذكاء الاصطناعي إلى المصدر

تحليل متعمق